剥离液
剥离液工艺介绍

光阻为一间接材料,意即不会留在产品上,因此做完Mask角色后,就必须将它移除。

黄光后的制程,如:蚀刻或是电镀,光阻都被视为hard mask使用。

Stripper的选择除了对光阻的蚀刻率之外,同时间也必须考虑到对其他材料如电镀后的金属层,底材等蚀刻率

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品名应用特性
SBS-300光阻剥离液1. SBS-300为一系列的光阻剥离液。
2. 包含了常用的NMP或DMSO为基底,再添加应用于各不同需求的添加剂,以符合客户的需求。